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晶间腐蚀，贫化理论：对于奥氏体不锈钢等合金，在一定条件下，晶界会析出第二相，导致晶界附近某种成分出现贫乏化。以奥氏体不锈钢为例，具体过程如下：碳化物析出：当温度升高时，碳在不锈钢晶粒内部的扩散速度大于铬的扩散速度。室温时碳在奥氏体中的溶解度很小，而一般奥氏体不锈钢中的含碳量均超过此值，多余的碳会不断地向奥氏体晶粒边界扩散，并和铬化合，在晶间形成碳化铬的化合物，如等。贫铬区形成：铬沿晶界扩散的速度比在晶粒内扩散速度快，但由于碳化铬形成速度较快，内部的铬来不及向晶界扩散，所以在晶间所形成的碳化铬所需的铬主要来自晶界附近，结果使晶界附近的含铬量大为减少。当晶界的铬的质量分数低到小于时，就形成 “贫铬区”。低倍组织热酸蚀腐蚀控制单元和酸蚀槽工作分开设计，增加控制单元工作寿命。无锡低倍组织热酸蚀腐蚀制样设备厂家
晶间腐蚀，检测晶间腐蚀状况：能检验各种不锈钢、铝合金、黄铜和镍基合金等材料在特定温度和腐蚀试剂下的晶间腐蚀状况。通过模拟材料在实际使用中可能遇到的腐蚀环境，让材料在仪器中经受腐蚀作用，从而直观地观察和分析材料是否发生晶间腐蚀以及腐蚀的程度。判定材料性能与工艺合理性：根据晶间腐蚀的检测结果，判定材料的化学成分、热处理和加工工艺是否合理。如果材料在试验中出现严重的晶间腐蚀，说明材料的成分可能存在问题，或者热处理、加工工艺不当，导致材料抗晶间腐蚀能力下降，进而为材料的改进和工艺的优化提供依据。无锡低倍组织热酸蚀腐蚀制样设备厂家电解抛光腐蚀，电信号低纹波，稳定性高。
晶间腐蚀，晶间腐蚀是一种局部腐蚀，主要发生在金属材料的晶粒间界区，沿着晶界发展，晶界吸附理论：低碳不锈钢在℃固溶处理后，在强氧化性介质中也会出现晶间腐蚀，此时不能用贫铬或相析出理论来解释。当杂质达或杂质达时，它们在高温区会使晶界吸附，并偏析在晶界上，这些杂质在强氧化剂介质作用下便发生溶解，导致晶界选择性的晶间腐蚀，不过这种钢经敏化处理后，反而不出现晶间腐蚀，这是由于碳和磷生成磷的碳化物，限制了磷向晶界的扩散，减轻杂质在晶界的偏析，消除或减弱了对晶间腐蚀的敏感性。
电解腐蚀，在金相分析中，样品表面质量至关重要。电解抛光是一种通过电化学作用去除金属表面微观不平度的方法。对于一些难以用机械抛光获得理想表面的金属材料，如不锈钢、镍基合金等，电解抛光仪可以发挥很大的作用。它能够在短时间内使样品表面达到很高的光洁度，形成类似镜面的效果。例如，在观察不锈钢金相组织时，机械抛光后的表面可能仍残留一些细微划痕，而电解抛光可以有效地消除这些划痕，使表面更加平整光滑，从而在金相显微镜下能够更清晰地观察到金相组织的细节，如晶界、相组成等。低倍加热腐蚀采用三层样品隔离放置方式，样品取放方便且增加了工作空间，改善腐蚀性。
电解抛光腐蚀参考资料
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试验材料 |
电解液配比 |
电压 |
时间 |
备注 |
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铜、铜一锌合金 |
水 100ml焦磷酸 580g |
1~2v |
10分 |
铜阴极 |
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铜和铜基合金 |
蒸馏水：500ml，磷酸（85%）250ml乙醇（95%） 250ml |
18V |
1~5分 |
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青铜 （Sn≤9%） |
水 450ml磷酸（85%） 390ml |
1.5~12V |
1~5分 |
0.1A/ cm2 |
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青铜 （Sn≤6%） |
水：330ml 硫酸 90ml磷酸（85%） 580ml |
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铝和铝一硅（＜2% 合金 |
蒸馏水：140ml，酒精（95%）800ml高氯酸（60%） 60ml |
30~40v |
15~60秒 |
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铝一合金 |
甲醇（纯） 840ml甘油（丙三醇） 125ml |
50~100v |
5~60秒 |
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铝 |
甲醇（纯）：950ml， 硝酸（1.40）15ml，高氯酸（60%）50ml |
30~60v |
15~60秒 |
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铝、银、镁 |
蒸馏水：200ml，磷酸（85%）400ml酒精（95%） 380ml |
25~30v |
4~6分 |
铝阴极 100~1100。F |
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电解抛光腐蚀，电压、电流随时间变化的曲线。无锡低倍组织热酸蚀腐蚀制样设备厂家
电解抛光腐蚀，电解浸蚀参考资料
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试验材料 |
浸蚀液配比 |
电解参数 |
时间 |
阴极材料 |
备注 |
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铝和铝合金 |
蒸馏水 90ml磷酸（1.71） 10ml |
1~8V |
5~10秒 |
不锈钢 |
纯铝，铝一铜，铝一？铝一？硅合金 |
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铜 |
正磷酸/蒸馏水=2：1 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
除锡青铜外的合金 |
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黄铜 |
正磷酸/水=3：5 |
0.01A/cm2 16~27。C |
几秒 |
铜 |
α黄铜，β黄铜 |
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黄铜 |
正磷酸/水=4：6 |
0.08~0.012A/cm2 24。C |
几秒 |
铜 |
α黄铜 |
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黄铜 |
正磷酸/硫酸（浓）/蒸馏水=67：10：23 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
含Sn≤6%的青铜 |
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青铜 |
正磷酸/硫酸（浓）/蒸馏水=47：20：33 |
0.8V 24。C |
30秒 |
铜 |
含Sn≤6%的青铜 |
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